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Otsuka大塚电子光谱干涉法晶圆厚度计
产品简介:

Otsuka大塚电子 SF-3 光谱干涉法晶圆厚度计
Otsuka大塚电子光谱干涉法晶圆厚度计

产品型号:SF-3

更新时间:2026-03-20

厂商性质:代理商

访问量:10

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产品介绍

Otsuka大塚电子光谱干涉法晶圆厚度计

Otsuka大塚电子光谱干涉法晶圆厚度计



Otsuka 大塚电子(Otsuka Electronics)SF-3 是一款 超高速、光谱干涉法(分光干涉式) 的非接触晶圆 / 薄膜厚度计,专为半导体晶圆研磨 / 减薄制程的 在线实时监控 设。
Otsuka大塚电子光谱干涉法晶圆厚度计

一、品牌与原理

  • 品牌大塚电子株式会社 (Otsuka Electronics),日本光学测量仪器大厂

  • 测量原理光谱干涉法 (Spectral Interference) —— 非接触、非破坏、高精度

  • 核心定位厚膜 / 晶圆在线测厚(区别于薄层膜厚仪),主打 高速、长工作距、产线集成

二、型号与测量范围(SF-3 系列)

分 4 个子型号,对应不同厚度量程:
表格
型号硅晶圆 (Si) 范围树脂 / 膜层范围
SF-3/2006 ~ 400 μm10 ~ 1000 μm
SF-3/30010 ~ 775 μm20 ~ 1500 μm
SF-3/80020 ~ 1000 μm40 ~ 2000 μm
SF-3/130050 ~ 1300 μm100 ~ 2600 μm

三、核心参数(关键)

  • 重复精度±0.01% 以下(高稳定性)

  • 快采样5 kHz (200 μs / 点),实时监控

  • 工作距离 (WD)3 ~ 200 mm(可穿保护膜 / 玻璃)

  • 光点直径φ20 ~ 27 μm(微小光斑)

  • 通信LAN (TCP/IP)、I/O 触发,适合产线集成

  • 尺寸:123 × 224 × 128 mm(紧凑型)

四、主要特点

  1. 在线实时监控:晶圆背面研磨(Backgrind)、CMP 过程厚度闭环控制

  2. 穿透测量:可穿过保护膜、玻璃窗口直接测基底厚度

  3. 多层分析:支持临时键合晶圆 双层厚度 分离测量

  4. 长工作距:安装灵活,不怕碰撞、耐粉尘

  5. 高速响应:适配高产能半导体设备

五、典型应用

  • 硅晶圆 (Si wafer)、化合物半导体(GaAs、SiC)厚度测量

  • 300 mm / 450 mm 晶圆、TSV 晶圆背面减薄监控

  • 玻璃基板、树脂厚膜、封装层厚度在线检测

  • 可集成到:研磨机、抛光机、EFEM、机械手平台

六、采购渠道(中国)

  • 日本大冢电子代理商:玉崎科学仪器(深圳)有限公司(Tamasaki Scientific)


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