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更新时间:2026-03-02
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超高灵敏度:能够检测到极低浓度的气体成分,最小可检测分压强可达 1×10⁻⁷ Pa 量级,非常适合用于高真空和超高真空环境的泄漏检测和杂质分析。
快速扫描:可以快速扫描 1~51 amu 的质量范围,实时监测真空室内气体成分的变化,帮助工程师判断工艺状态或泄漏源。
坚固耐用:采用铸钍钨灯丝,相比普通灯丝具有更长的使用寿命和更好的抗中毒能力,适合在复杂工业环境中长期运行。
操作简便:通常配备专用的控制单元(如 CGM-CP01),通过电脑软件进行操作,界面友好,易于进行谱图分析。
真空系统检漏:通过检测示踪气体(如氦气)的信号,精确定位真空系统的泄漏点。
工艺过程监控:在半导体制造、真空镀膜(PVD/CVD)等工艺中,实时监控反应气体的消耗和副产物的生成,确保产品质量。
材料出气分析:在真空热处理或空间模拟环境中,分析材料在真空下释放的气体成分(如水蒸气、碳氢化合物),评估材料的真空适应性。
基础科学研究:在物理、化学等实验室中,用于表面科学、催化反应等领域的气体成分分析。